AHI Journal光焱科技（7728）
光焱科技 技術分析
均線、KD、MACD、RSI、布林通道與量能的最新讀數。
光焱科技 技術面現在怎麼樣？
光焱科技（資料日 10/8）：上升趨勢，距 52 週高 -28.4%；站上 20 日線、站上 60 日線、站上 240 日線；K 值 43.5、RSI 52.2。
| 指標 | 讀數 | 怎麼讀 |
|---|---|---|
| 均線位置 | 上升趨勢 | 距 52 週高 -28.4%；站上 20 日線、站上 60 日線、站上 240 日線 |
| KD（9 日） | K 43.5／D 44.8 | K 值位於 20–80 之間；近期 死亡 交叉（10/8） |
| MACD（12,26,9） | DIF 5.36／訊號線 3.05 | 柱狀體 +2.32；近期 DIF 上穿訊號線（9/30） |
| RSI（14 日） | 52.2 | 70 以上為高檔區、30 以下為低檔區 |
| 布林通道（20 日） | 上軌 670.95／中線 622.00／下軌 573.05 | 收盤在通道中的位置 59%（100% 為上軌）；帶寬 15.7% |
| 20 日乖離 | +1.4% | 收盤相對 20 日均線 |
| 近 20／60 日高低 | 569.00–714.00／478.00–714.00 | 盤中最高與最低（還原） |
| 量能 | 今日 1.46 倍／近 5 日 0.64 倍 | 相對 20 日平均成交量 |
技術指標只描述價格與成交量的位置，本刊不以指標給出買賣訊號。互動技術圖請看個股頁。
資料整理自公開資訊，只描述數字，不是投資建議；作者非持牌投資顧問。每個數字怎麼算見方法論。
