正瀚-创（6534）

正瀚-创技术分析

均线、KD、MACD、RSI、布林通道与量能的最新读数。

正瀚-创技术面现在怎么样？

正瀚-创（资料日 10/13）：上升趋势，距 52 周高 -14.0%；站上 20 日线、站上 60 日线、站上 240 日线；K 值 69.2、RSI 56.2。

指标	读数	怎么读
均线位置	上升趋势	距 52 周高 -14.0%；站上 20 日线、站上 60 日线、站上 240 日线
KD（9 日）	K 69.2／D 71.4	K 值位于 20–80 之间；近期死亡交叉（10/13）
MACD（12,26,9）	DIF 0.66／信号线 0.23	柱状体 +0.43；近期 DIF 上穿信号线（9/30）
RSI（14 日）	56.2	70 以上为高档区、30 以下为低档区
布林通道（20 日）	上轨 95.14／中线 91.52／下轨 87.89	收盘在通道中的位置 75%（100% 为上轨）；带宽 7.9%
20 日乖离	+2.0%	收盘相对 20 日均线
近 20／60 日高低	89.40–96.50／89.40–96.50	盘中最高与最低（还原）
量能	今日 1.15 倍／近 5 日 2.02 倍	相对 20 日平均成交量

技术指标只描述价格与成交量的位置，本刊不以指标给出买卖信号。互动技术图请看个股页。

资料整理自公开信息，只描述数字，不是投资建议；作者非持牌投资顾问。每个数字怎么算见方法论。